Agência FAPESP – O Instituto de Física Gleb Wataghin da Universidade Estadual de Campinas (Unicamp) dispõe de duas vagas de pós-doutorado em Física Aplicada e Ciência de Materiais com bolsa da FAPESP. Prazo de inscrição termina em 31 de julho de 2017. As bolsas estão vinculadas ao Projeto Temático .
As vagas oferecidas estão focadas na investigação e no desenvolvimento de filmes finos (camadas protetoras, coatings) e interfaces, com o objetivo de melhorar e propor novos materiais nanoestruturados, com propriedades de alta dureza, resistência ao desgaste, baixo atrito (macro e nano) e alta adesão. Materiais como TIN, TiAlN, TiCN, carbono tipo diamante (diamond like) e TiO2 dopado com terras-raras são alguns dos materiais atualmente em estudo.
Os candidatos devem possuir doutorado em Ciência de Materiais ou Física Aplicada e sólida formação em algumas técnicas de deposição de filmes finos, tais como CVD, PECVD, Sputtering reativo e feixe de íons (Kaufman). Também é recomendada familiaridade com técnicas de caraterização (não todas), tais como SEM, AFM, XRD, XPS, micro e nano dureza, espectroscopia infravermelha e Raman.
As submissões deverão ser enviadas junto com curriculum vitae dos candidatos para [email protected].
As vagas estão abertas a brasileiros e estrangeiros. Os selecionados receberão Bolsa de Pós-Doutorado da FAPESP no valor de R$ 6.819,30 mensais e Reserva Técnica. A Reserva Técnica de Bolsa de PD equivale a 15% do valor anual da bolsa e tem o objetivo de atender a despesas imprevistas e diretamente relacionadas à atividade de pesquisa.
Caso os bolsistas de PD residam em domicílio diferente e precisem se mudar para a cidade onde se localiza a instituição-sede da pesquisa, poderão ter direito a um Auxílio-Instalação. Mais informações sobre a Bolsa de Pós-Doutorado da FAPESP estão disponíveis em .
Outras vagas de bolsas, em diversas áreas do conhecimento, estão no site FAPESP-Oportunidades, em .